ASML - China mit Durchbruch bei EUV-Lithografie

Die Dimensionen des Vorhabens, das in Fachkreisen bereits als Chinas Manhattan-Projekt bezeichnet wird, sind gewaltig. In einem Hochsicherheitskomplex in Shenzhen wurde Anfang 2025 ein funktionsfähiger Prototyp einer EUV-Maschine (Extreme Ultraviolet Lithography) fertiggestellt, berichtet Reuters. Westliche Experten und Analysten gingen bisher davon aus, dass China mindestens ein Jahrzehnt benötigen würde, um diese technologische Hürde zu nehmen.