- Datum04.12.2024
- Uhrzeit15:00 - 15:30 Uhr
- Veranstalter
stock3
Bastian Galuschka
Moderator
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ASML Holding N.V. Realtime-Kurs
| Name | Kurs | +/- (%) | +/- (abs) | Vortag | Zeit | Aktionen |
|---|---|---|---|---|---|---|
| L&S | VK | |||||
| Tradegate | VK | |||||
| Stuttgart | VK |
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| WKN | Long/Short | KO | Hebel | Laufzeit | Bid | Ask |
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Wertentwicklung (XETRA)
1,57 %
Intraday
1,12 %
1 Woche
-2,86 %
1 Monat
-6,29 %
Seit Jahresbeginn
1,57 %
1 Jahr
-9,74 %
3 Jahre
164,67 %
5 Jahre
695,18 %
10 Jahre
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Kursinformationen (XETRA)
- Tagestief / Hoch (€)-
- 52W-Tief / Hoch (€)605,800-1.020,800
- Jahrestief / Hoch (€)605,800-1.020,800
- Schlusskurs (Vortag)
- Eröffnungskurs
- Volumen Intraday
Wichtigste Eigenschaften
Dividenden von ASML Holding N.V.
| Ex-Datum | Fiskaljahr | Dividende | Rendite |
|---|---|---|---|
| - | 2027 (e) | ||
| - | 2026 (e) | ||
| - | 2025 (e) | ||
| - | 2024 (e) | ||
| 29.10.2024 | 2024 | 1,52 € | 0,23 % |
| 29.07.2024 | 2024 | 1,52 € | 0,19 % |
| 05.02.2024 | 2024 | 1,45 € | 0,18 % |
| 26.04.2024 | 2023 | 1,75 € | 0,21 % |
| 01.11.2023 | 2023 | 1,45 € | 0,26 % |
| 01.08.2023 | 2023 | 1,45 € | 0,22 % |
| 28.04.2023 | 2023 | 1,69 € | 0,30 % |
| 04.08.2022 | 2022 | 1,37 € | 0,24 % |
| 06.02.2023 | 2022 | 1,37 € | 0,21 % |
| 03.11.2022 | 2022 | 1,37 € | 0,29 % |
| 03.05.2022 | 2021 | 3,70 € | 0,70 % |
| 02.11.2021 | 2021 | 1,80 € | 0,26 % |
| 03.05.2021 | 2020 | 1,55 € | 0,29 % |
| 02.11.2020 | 2020 | 1,20 € | 0,38 % |
| 24.04.2020 | 2019 | 1,35 € | 0,50 % |
| 04.11.2019 | 2019 | 1,05 € | 0,44 % |
| 26.04.2019 | 2018 | 2,10 € | 1,15 % |
| 27.04.2018 | 2017 | 1,40 € | 0,86 % |
| 28.04.2017 | 2016 | 1,20 € | 0,99 % |
| 03.05.2016 | 2015 | 1,05 € | 1,27 % |
| 24.04.2015 | 2014 | 0,70 € | 0,71 % |
| 25.04.2014 | 2013 | 0,61 € | 1,05 % |
| 26.04.2013 | 2012 | 0,53 € | 0,96 % |
Termine von ASML Holding N.V.
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Beschreibung
ASML wurde 1984 gegründet. Der Sitz ist in den Niederlanden. Das Unternehmen ist führend bei Fotolithografiesystemen für die Herstellung von Halbleitern. Bei der Fotolithografie wird eine Lichtquelle verwendet, um Schaltkreismuster von einer Fotomaske auf einen Halbleiterplättchen zu belichten. Aktuelle Fortschritte ermöglichen es den Chipherstellern, die Anzahl der Transistoren auf der gleichen Siliziumfläche kontinuierlich zu erhöhen, wobei die Lithografie früher einen erheblichen Teil der Kosten für die Herstellung von Spitzenchips ausmachte. Chip-Hersteller benötigen EUV-Lithographie-Werkzeuge der nächsten Generation von ASML, um den 5-Nanometer-Prozessknoten zu überwinden. Die Produkte von ASML werden bei allen großen Halbleiterherstellern eingesetzt, darunter Intel, Samsung und TSMC.
