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Webinar zu ACM Research Inc.

Traden mit HebelSelect

In der Webinarreihe „Traden mit HebelSelect“ widmen sich die stock3-Experten Bastian Galuschka oder Thomas May im 2-Wochentakt konkreten Handelssignalen für Indizes, Aktien, Rohstoffe und Währungen. Sei dabei, wenn sie mithilfe ihrer langjährigen Expertise die perfekten Werte finden und diese auch traden. Pro Sendung wird es mindestens einen Live-Trade geben. Das will niemand verpassen. Erfahre in dieser Live-Session von den Profis selbst, wie Du als Trader Deine Ziele bestimmst und sinnvoll absicherst. Lerne die Vorteile der Trading-Plattform HebelSelect der comdirect und ihre individuellen Hebel ganz genau kennen.

  • Datum
    04.12.2024
  • Uhrzeit
    15:00 - 15:30 Uhr
  • Veranstalter
    stock3stock3
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Kursinformationen (Nasdaq)

  • Tagestief / Hoch ($)
    -
  • 52W-Tief / Hoch ($)
    13,940-34,400
  • Jahrestief / Hoch ($)
    13,940-34,400
  • Schlusskurs (Vortag)
  • Eröffnungskurs
  • Volumen Intraday

Wichtigste Eigenschaften

  • WKNA2H62FKopiert
  • ISINUS00108J1097Kopiert
  • TickerACMR
  • AnlageklasseAktie
  • LandUSA USA
  • BrancheHalbleiter Ausstattung und Materialien
  • SektorTechnologie
  • Index-Zugehörigkeit
  • Anzahl Aktien57,61 Mio.
  • Marktkapitalisierung1,20 Mrd. $

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Ex-Datum Fiskaljahr Dividende Rendite
-2026 (e)stock3 Tradematestock3 Trademate
-2025 (e)stock3 Tradematestock3 Trademate
-2024 (e)stock3 Tradematestock3 Trademate

Termine von ACM Research Inc.

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Beschreibung

ACM Research Inc is a United-based company. It is engaged in developing, manufacturing, and selling single-wafer wet cleaning equipment, which is used by semiconductor manufacturers in numerous manufacturing steps to remove particles, contaminants, and other random defects to improve product yield, in fabricating integrated circuits, or chips. The company offers space alternated phase shift which employs alternating phases of megasonic waves to deliver megasonic energy to flat and patterned wafer surfaces on a microscopic level; and Timely Energized Bubble Oscillation technology which provides effective, damage-free cleaning for both conventional two and three-dimensional patterned wafers at process nodes.