ASML Holding N.V. Aand.aan toon.(N.Y.Reg.)EO-,09 Aktie

 
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ASML Holding N.V. Aand.aan toon.(N.Y.Reg.)EO-,09 Realtime-Kurs

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  • Datum
    04.12.2024
  • Uhrzeit
    15:00 - 15:30 Uhr
  • Veranstalter
    stock3stock3
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Kursinformationen (Nasdaq)

  • Tagestief / Hoch ($)
    -
  • 52W-Tief / Hoch ($)
    645,450-1.110,090
  • Jahrestief / Hoch ($)
    645,450-1.110,090
  • Schlusskurs (Vortag)
  • Eröffnungskurs
  • Volumen Intraday

Wichtigste Eigenschaften

  • WKNA1J85VKopiert
  • ISINUSN070592100Kopiert
  • TickerASML
  • AnlageklasseAktie
  • LandNiederlande Niederlande
  • BrancheHalbleiter Ausstattung und Materialien
  • SektorTechnologie
  • Index-Zugehörigkeit
  • Anzahl Aktien393,20 Mio.
  • Marktkapitalisierung262,15 Mrd. $

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Dividenden von ASML Holding N.V. Aand.aan toon.(N.Y.Reg.)EO-,09

Ex-Datum Fiskaljahr Dividende Rendite
-2027 (e)stock3 Tradematestock3 Trademate
-2026 (e)stock3 Tradematestock3 Trademate
-2025 (e)stock3 Tradematestock3 Trademate
-2024 (e)stock3 Tradematestock3 Trademate
29.10.20242024 1,6413568 $ 0,23 %
29.07.20242024 1,643348 $ 0,18 %
26.04.20242024 1,8732 $ 0,21 %
05.02.20242023 1,55556 $ 0,17 %
01.11.20232023 1,529678 $ 0,26 %
01.08.20232023 1,5929555 $ 0,22 %
01.05.20232023 1,8578001 $ 0,29 %
06.02.20232023 1,4719285 $ 0,22 %
04.08.20222022 1,3959341 $ 0,24 %
03.11.20222022 1,3400655 $ 0,30 %
03.05.20222022 3,89795 $ 0,68 %
02.11.20212021 2,08431 $ 0,26 %
03.05.20212021 1,869688 $ 0,29 %
02.11.20202020 1,395738 $ 0,39 %
24.04.20202020 1,45773 $ 0,50 %
04.11.20192019 1,1697 $ 0,43 %
26.04.20192018 2,3436 $ 1,14 %
27.04.20182017 1,690304 $ 0,86 %
28.04.20172016 1,307196 $ 0,98 %
03.05.20162015 1,208666 $ 1,24 %
24.04.20152014 0,760214 $ 0,70 %
25.04.20142013 0,843917 $ 1,00 %
26.04.20132012 0,690299 $ 0,92 %

Termine von ASML Holding N.V. Aand.aan toon.(N.Y.Reg.)EO-,09

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Beschreibung

ASML wurde 1984 gegründet. Der Sitz ist in den Niederlanden. Das Unternehmen ist führend bei Fotolithografiesystemen für die Herstellung von Halbleitern. Bei der Fotolithografie wird eine Lichtquelle verwendet, um Schaltkreismuster von einer Fotomaske auf einen Halbleiterplättchen zu belichten. Aktuelle Fortschritte ermöglichen es den Chipherstellern, die Anzahl der Transistoren auf der gleichen Siliziumfläche kontinuierlich zu erhöhen, wobei die Lithografie früher einen erheblichen Teil der Kosten für die Herstellung von Spitzenchips ausmachte. Chip-Hersteller benötigen EUV-Lithographie-Werkzeuge der nächsten Generation von ASML, um den 5-Nanometer-Prozessknoten zu überwinden. Die Produkte von ASML werden bei allen großen Halbleiterherstellern eingesetzt, darunter Intel, Samsung und TSMC.