IBM: Halbleiter-Kooperation in Japan
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IBM Corp. und die japanische Toppan Printing Co. haben im Bereich Photomasken für die Halbleiterherstellung eine Allianz geschlossen. Erweiterte Photomasken sind essentiell für die Herstellung von Halbleitern. Beide Unternehmen wollen im Rahmen der Kooperation insgesamt $200 Millionen investieren. Beide Unternehmen haben sich zum Ziel gesetzt, moderne 45nm-Photomasken erstmals Mitte des Jahres 2007 herstellen zu können.
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